据悉,尼康日前正式宣布,开发出了开口数(NA)为1.30的液浸ArF曝光设备“NSR-S610C”,将于2006年第4季度开始销售。分辨率为45nm,可用于半间距45nm的内存和32nm工艺逻辑LSI的量产。该公司过去曾介绍说将于2006年下半年供应NSR-S610C,看来其开发工作基本符合预定计划。这款NA1.30的曝光设备采用由反射镜和折射透镜组成的反射折射型光学系统。对于该光学系统,尼康表示:“采用了不会产生光斑和热像差问题的设计与生产方式,能够得到稳定的成像性能。” (第三媒体 2006-07-12)